仪器型号：SKE102011

生产商：台湾矽基科技有限公司

应用范围：

    本设备为双腔室溅射台，反应室设置有4个靶位，靶材尺寸为直径76.2mm*60mm厚的圆靶材，样品尺寸≦4inch，样品托盘可旋转，镀膜均匀，双腔之间用机械手进行传递，通过电脑界面自动控制，操作简便。电源配有DC/RF两种，设备配有高抽速分子泵，本底真空度高。可用于溅射各种单层或者多层金属及氧化物膜层，并带有偏压溅射、共溅射、等离子清洗等功能，衬底加热最高400度。（备注：本实验室配有数十种金属及氧化物靶材供选择）。