仪器型号：SKE102012   PECVD & RIE

生产商：台湾矽基科技有限公司

应用范围：

    设备包括PECVD系统及RIE系统，两个系统公用一套电源系统，设备自动化程度高，操作方便，PECVD可用于在基片上沉积SiO2、Si3N4等介质薄膜，RIE(反应离子刻蚀)设备兼有物理和化学作用对各种金属、氧化物膜等进行刻蚀，设备配有O2，N2O,NH3，CF4，SF6，SIH4,H2等气体供选择进行长膜或者刻蚀。